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關於慶康
公司簡介
組織架構
經營團隊
發展沿革
公司簡介
組織架構
經營團隊
發展沿革
2020 —— 至今
2010 —— 2019
2000 —— 2009
1994 —— 1999
2023
成功建立高度自動化生產線。
10/19公開發行生效、10/31正式登錄戰略新板。
2022
南科廠通過國際客戶組件製造認證。
成功建立HFCVD工程能力。
正式取得太陽光電發電設備系統售電收入。
依公司法第167之1條規定註銷198仟股,註銷後實收股本NT$98,020千元。
2021
現金減資15,040仟股,現金減資後實收股本NT$100,000千元。
2020
成功開發熱噴塗靜電吸盤(E-Chuck)。
南科廠B棟廠房落成啟用。
規劃於A棟、B棟廠房屋頂設置太陽光電發電設備系統。
依公司法第167之1條規定註銷420仟股,註銷後實收股本NT$250,400千元。
2019
通過ISO 9001:2015國際認證。
2018
南科廠B棟廠房動土。
2016
成功開發200mm第二代加熱器(Heater)。
獲勞動部勞動力發展署TTQS人才發展品質管理評核(企業機構版)銅牌。
2015
南科廠通過國際客戶濕法製程認證。
2014
開始200mm第二代加熱器(Heater)研發。
2012
整合南竹科產線、提高競爭力,註銷竹科廠。
依公司法第167之1條規定註銷1,340仟股,註銷後實收股本NT$254,600千元。
2011
國科會固本精進研究計畫-高效率CdTe 薄膜太陽電池之研製專案結案驗收。
2010
開始大尺寸之PECVD 及蒸鍍(Evaporation)設備開發。
2009
成功建立真空仟焊製程。
成功建立電漿噴塗(Plasma Spray)製程。
成功取得客戶加熱器訂單。
與中山大學材料與光電科學系產學合作,執行國科會固本精進研究計畫-高效率CdTe 薄膜太陽電池之研製。
2008
成功建立高能束流表面處理製程。
成功開發出「旋轉陰極」(Rotatable Cathode),可應用在大尺寸玻璃(2.54x3.66m)上,以PVD 鍍膜。
南科廠通過ISO 9001:2000國際認證。
2003
南科廠通過ISO國際認證。
召開協力廠商研討會。
2002
南科廠A棟廠房落成陸續啟用。
華邦煙害設備專案結案。
2000
執行業界科專「BGA基板電漿清洗技術開發」。
大面積高密度電漿源技術突破,並申請專利。
辦理現金增資,增資後實收股本NT$268,000千元。
執行關鍵零組件及產品開發計劃「氟氯碳尾氣電漿反應系統開發計畫」。
業界科專「BGA基板電漿清洗技術開發」執行結案。
南科廠第一期動土。
1999
執行經濟部所屬事業協助中小企業推動研究發展計畫「電漿蝕刻機靜電吸盤開發」。
執行新竹科學園區創新技術研究發展案「電漿輔助化學氣相沉積機台用電阻加熱式晶片載台開發」。
BGA電漿清洗機(BGA Plasma Cleaner)開發成功。
辦理增資,增資後實收股本NT$250,000千元。
1998
成功開發高密度電漿金屬蝕刻機集束傳輸設備(Cluster Tool)。
使用在物理氣相沉積(PVD)設備之鈦合金準直管(Collimator)開發成功。
辦理現金增資,增資後實收股本NT$182,000千元。
1997
成功開發陽極處理鋁合金零件、表面電漿噴焊(Plasma Spray)零件、精密陶瓷零件等半導體設備零組件,並積極開發Susceptor、Heater、E-Chuck等半導體設備次系統件。
執行竹科創新產品研發案「乾式蝕刻機上電極板開發」。
加入清華大學「12吋晶圓高密度電漿源開發」產學計畫。
辦理現金增資,增資後實收股本NT$118,093千元。
自華邦電子(股)公司購入煙害八吋晶圓全廠設備,藉由翻修學習半導體設備之設計。
1995
研發製造出鈦合金及鈷合金的高精度人工髖關節,並成功銷售予美國人工骨骼公司。
將半導體設備零組件及次系統件增列入營業項目,積極開發製造半導體製程設備內的機械零組件。
1994
在新竹科學園區設立。
研發製造人工骨骼,並成功銷售予國外人工骨骼公司。
2020 —— 至今
2010 —— 2019
2000 —— 2009
1994 —— 1999
2023
成功建立高度自動化生產線。
10/19公開發行生效、10/31正式登錄戰略新板。
2022
南科廠通過國際客戶組件製造認證。
成功建立HFCVD工程能力。
正式取得太陽光電發電設備系統售電收入。
依公司法第167之1條規定註銷198仟股,註銷後實收股本NT$98,020千元。
2021
現金減資15,040仟股,現金減資後實收股本NT$100,000千元。
2020
成功開發熱噴塗靜電吸盤(E-Chuck)。
南科廠B棟廠房落成啟用。
規劃於A棟、B棟廠房屋頂設置太陽光電發電設備系統。
依公司法第167之1條規定註銷420仟股,註銷後實收股本NT$250,400千元。
2019
通過ISO 9001:2015國際認證。
2018
南科廠B棟廠房動土。
2016
成功開發200mm第二代加熱器(Heater)。
獲勞動部勞動力發展署TTQS人才發展品質管理評核(企業機構版)銅牌。
2015
南科廠通過國際客戶濕法製程認證。
2014
開始200mm第二代加熱器(Heater)研發。
2012
整合南竹科產線、提高競爭力,註銷竹科廠。
依公司法第167之1條規定註銷1,340仟股,註銷後實收股本NT$254,600千元。
2011
國科會固本精進研究計畫-高效率CdTe 薄膜太陽電池之研製專案結案驗收。
2010
開始大尺寸之PECVD 及蒸鍍(Evaporation)設備開發。
2009
成功建立真空仟焊製程。
成功建立電漿噴塗(Plasma Spray)製程。
成功取得客戶加熱器訂單。
與中山大學材料與光電科學系產學合作,執行國科會固本精進研究計畫-高效率CdTe 薄膜太陽電池之研製。
2008
成功建立高能束流表面處理製程。
成功開發出「旋轉陰極」(Rotatable Cathode),可應用在大尺寸玻璃(2.54x3.66m)上,以PVD 鍍膜。
南科廠通過ISO 9001:2000國際認證。
2003
南科廠通過ISO國際認證。
召開協力廠商研討會。
2002
南科廠A棟廠房落成陸續啟用。
華邦煙害設備專案結案。
2000
執行業界科專「BGA基板電漿清洗技術開發」。
大面積高密度電漿源技術突破,並申請專利。
辦理現金增資,增資後實收股本NT$268,000千元。
執行關鍵零組件及產品開發計劃「氟氯碳尾氣電漿反應系統開發計畫」。
業界科專「BGA基板電漿清洗技術開發」執行結案。
南科廠第一期動土。
1999
執行經濟部所屬事業協助中小企業推動研究發展計畫「電漿蝕刻機靜電吸盤開發」。
執行新竹科學園區創新技術研究發展案「電漿輔助化學氣相沉積機台用電阻加熱式晶片載台開發」。
BGA電漿清洗機(BGA Plasma Cleaner)開發成功。
辦理增資,增資後實收股本NT$250,000千元。
1998
成功開發高密度電漿金屬蝕刻機集束傳輸設備(Cluster Tool)。
使用在物理氣相沉積(PVD)設備之鈦合金準直管(Collimator)開發成功。
辦理現金增資,增資後實收股本NT$182,000千元。
1997
成功開發陽極處理鋁合金零件、表面電漿噴焊(Plasma Spray)零件、精密陶瓷零件等半導體設備零組件,並積極開發Susceptor、Heater、E-Chuck等半導體設備次系統件。
執行竹科創新產品研發案「乾式蝕刻機上電極板開發」。
加入清華大學「12吋晶圓高密度電漿源開發」產學計畫。
辦理現金增資,增資後實收股本NT$118,093千元。
自華邦電子(股)公司購入煙害八吋晶圓全廠設備,藉由翻修學習半導體設備之設計。
1995
研發製造出鈦合金及鈷合金的高精度人工髖關節,並成功銷售予美國人工骨骼公司。
將半導體設備零組件及次系統件增列入營業項目,積極開發製造半導體製程設備內的機械零組件。
1994
在新竹科學園區設立。
研發製造人工骨骼,並成功銷售予國外人工骨骼公司。
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